Maan Plasma Treatment

Het plasma assortiment van Maan Group bestaat uit verschillende systemen en technieken voor het voor- behandelen van materialen, met als doel het aanbrengen van coatings voor het verbeteren of aanpassen van oppervlakte eigenschappen. Met de PlasMaanSurface en PlasMaanJet systemen en het PlasMaanCVD proces kunnen een groot deel van de materialen in verschillende processen met plasma worden voorbehandeld. De PlasMaanSurface en PlasMaanJet systemen zijn atmosferische plasma voorbehandelingssystemen ontwikkeld door Maan Engineering. Het PlasMaanCVD proces is een PECVD proces. Deze drie technieken zijn operationeel bij Maan Group. Daarnaast zijn de systemen en processen beschikbaar voor testen en proefproducties.

PlasMaanJet
PlasMaanJet
Effectieve en hoge energetische plasma voorbehandeling
voor verbeterde hechtingseigenschappen
→ Lees meer
PlasMaanSurface
PlasMaanSurface
Verbeterde hechtingseigenschappen voor flexible electronics
→ Lees meer
PlasMaanCVD
PlasMaanCVD
Plasma voor het veranderen van oppervlakte eigenschappen
→ Lees meer
PlasMaanJet
PlasMaanJet
Het PlasMaanJet systeem is een Plasma jet voorbehandelingssysteem om materialen zoals, kunststoffen, composieten, textiel, glas en karton, te activeren of te reinigen. Daarnaast kan het PlasMaanJet systeem ingezet worden voor het hydrofiel maken van oppervlakten door het modificeren van de oppervlakte- spanning van materialen. Het PlasMaanJet systeem is uitermate geschikt om te integreren in bestaande productielijnen met een hoge processnelheid.
→ Meer over PlasMaanJet
PlasMaanSurface
PlasMaanSurface
Het PlasMaanSurface systeem verhoogt de oppervlaktespanning van (flexibele) materialen door de behandeling met plasma, voor het verkrijgen van verbeterde hechtingseigenschappen. Het systeem kan worden ingezet in processen voor de productie van printed electronics, flexible electronics en light sensitive plastics. Het systeem is ook geschikt voor de voorbehandeling van geleidende materialen. Het systeem biedt directe en efficiënte behandelingen met hoge homogeniteit onder atmosferische druk. Het systeem kan worden toegepast in roll-to-roll en flat sheet productieprocessen. Naast het productieproces van printed en flexible electronics, is het systeem ook toe te passen in OLED en OPV productieprocessen.
→ Meer over PlasMaanSurface
PlasMaanCVD
PlasMaanCVD
Het MaanCVD proces (Chemical Vapor Depostion) is een vacuüm proces. CVD plasma is een vorm van vacuüm plasma treatment. Het te bewerken materiaal wordt in een vacuümkamer geplaatst. Hierna vormt een gas een dunne film op het materiaal. Het materiaal kan zowel 2D, 3D als roll-to-roll behandeld worden. Alle onderdelen van het materiaal worden behandeld met low-pressure plasma door middel van een batch proces. Het PlasMaanCVD proces behandeld verschillende materialen en producten voor om zo een betere hechtingseigenschappen te genereren.
→ Meer over PlasMaanCVD
ennl